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半導體器件生產(chǎn)中所制備的二氧化硅薄膜屬于無定形二氧化硅。
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在常規(guī)熱氧化工藝中干氧氧化的速度最快。
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溫度對氧化速率常數(shù)A、B都有影響,壓強只影響氧化速率常數(shù)B。
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