A、試塊探測(cè)面表面狀態(tài)不一致 B、近場(chǎng)中干涉的影響 C、孔的幾何形狀不準(zhǔn)確 D、全都可能
A、相同 B、增高 C、降低 D、延長(zhǎng)
A、2mm平底孔 B、4mm平底孔 C、3mm平底孔 D、5mm平底孔