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單項選擇題
()是通過把被蒸物體加熱,利用被蒸物在高溫時的飽和蒸汽壓來進行薄膜沉積的。
A.蒸鍍
B.濺射
C.離子注入
D.CVD
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單項選擇題
()是以物理的方法來進行薄膜沉積的一種技術(shù)。
A.LPCVD
B.PECVD
C.CVD
D.PVD
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單項選擇題
物理氣相沉積簡稱()。
A.LVD
B.PED
C.CVD
D.PVD
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