被檢光學(xué)表面與其參考光學(xué)表面產(chǎn)生的干涉條紋的不規(guī)則程度。
被檢光學(xué)表面與其參考光學(xué)表面曲率半徑有偏差時(shí)所產(chǎn)生的干涉圈數(shù)。
學(xué)系統(tǒng)的一部分,通過(guò)其移動(dòng),能配合系統(tǒng)物面位置改變,保持光學(xué)系統(tǒng)成像在原位置上。