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淀積膜的過程有三個不同的階段。第一步是(),第二步是(),第三步是()。
答案:
晶核形成;聚焦成束;匯聚成膜
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填空題
目前常用的CVD系統(tǒng)有()、()和()。
答案:
APCVD;LPCVD;PECVD
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立式爐的工藝腔或爐管是對硅片加熱的場所,它由垂直的()、()和()組成。
答案:
石英工藝腔;加熱器;石英舟
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