首頁(yè)
網(wǎng)課
桌面端
搜標(biāo)題
搜題干
搜選項(xiàng)
0
/ 200字
搜索
判斷題
用于亞0.25μm工藝的選擇性氧化的主要技術(shù)是淺槽隔離。
答案:
正確
點(diǎn)擊查看答案解析
你可能感興趣的試題
判斷題
傳統(tǒng)的0.25μm工藝以上的器件隔離方法是硅的局部氧化。
答案:
正確
點(diǎn)擊查看答案解析
判斷題
氧化物有兩個(gè)生長(zhǎng)階段來(lái)描述,分別是線(xiàn)性階段和拋物線(xiàn)階段。
答案:
正確
點(diǎn)擊查看答案解析
微信掃碼免費(fèi)搜題