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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】軟烘烤的目的是什么？列出烘烤過(guò)度和不足會(huì)產(chǎn)生什么后果？
答案：
目的：將光刻膠從液態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)楣虘B(tài)，增強(qiáng)光刻膠在晶體表面的附著力。
使光刻膠含有5%-20%的殘余溶劑。
使光刻膠含有5%-20%的殘余溶劑。
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述光刻工藝的8道工序
答案：
八道工序?yàn)椋壕A清洗、預(yù)烘培和底漆涂敷、光刻膠自旋涂敷、軟烘烤、對(duì)準(zhǔn)和曝光、曝光后烘烤，以及顯影、硬烘烤和圖形檢測(cè)
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】列出4種曝光技術(shù)，并說(shuō)明那種分辨率最高，說(shuō)明各種曝光技術(shù)的優(yōu)缺點(diǎn)。
答案：
1、接觸式曝光：分辨率較高，可在亞微米范圍內(nèi)。接觸時(shí)的微粒會(huì)在晶圓上產(chǎn)生缺陷，光刻版的壽命也會(huì)減短。
2、接近...
2、接近...
