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單項選擇題
光刻工藝的設(shè)備核心是（）。
A.掩膜版
B.對準(zhǔn)和曝光
C.光刻機(jī)
D.光刻膠
A.掩膜版
B.對準(zhǔn)和曝光
C.光刻機(jī)
D.光刻膠
