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【簡答題】光刻的本質(zhì)是什么?
答案:
光刻就是將掩膜版(光刻版)上的幾何圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體襯底表面的對光輻照敏感的薄膜材料(光刻膠)上去的工藝過程。
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【簡答題】最早應(yīng)用在半導(dǎo)體光刻工藝中的光刻膠是哪種膠?
答案:
負(fù)光刻膠
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【簡答題】什么是負(fù)性光刻?正性光刻?
答案:
負(fù)性光刻:把與掩膜版上圖形相反的圖形復(fù)制到硅片上。
正性光刻:把與掩膜版上圖形相同的圖形復(fù)制到硅片上。兩種工藝...
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