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問答題

【簡答題】解釋說明自對準柵工藝流程，為什么當圖形化尺寸小到0.18um時，使用鈷硅化物取代鈦硅化物？為什么當圖形化尺寸小到65nm時，使用鎳硅化物取代鈷硅化物？

答案：

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答案：整面全*區(qū)覆蓋氧化層、局部硅氧化（LOCOS）、淺槽隔離（STI）、P型摻雜結(jié)也可以用于形成相鄰晶體管的電氣隔離。

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