在單晶襯底上按襯底晶向生長一層新的單晶薄膜的工藝技術(shù)。
所有圖形上淀積的薄膜厚度相同;也稱共性覆蓋。
RF激活氣體分子(等離子體),使其在低溫(室溫)下發(fā)生化學(xué)反應(yīng),淀積成膜。