問答題

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答案: 因為光刻在IC制造中
①占芯片制造時間的40 to 50%
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答案: 在雙極集成電路工藝中,采用高阻的外延層可提高集電結(jié)的擊穿電壓,而其低阻的襯底(或埋層)可降低集電極的串聯(lián)電阻。在MOS集...
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