問答題

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答案： 因為光刻在IC制造中
①占芯片制造時間的40 to 50%
②占芯片制造成本的1...
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【簡答題】在雙極集成電路和MOS集成電路工藝中，為什么都要用外延層？
答案： 在雙極集成電路工藝中，采用高阻的外延層可提高集電結(jié)的擊穿電壓，而其低阻的襯底（或埋層）可降低集電極的串聯(lián)電阻。在MOS集...
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