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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】闡述銅金屬化面臨的三大問(wèn)題,如何解決這些問(wèn)題?
答案:
銅金屬化面臨的三大問(wèn)題:
①擴(kuò)散到氧化區(qū)和有源區(qū);
②刻蝕困難(干法刻蝕難以形成揮發(fā)性物質(zhì)),銅不容...
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【簡(jiǎn)答題】在半導(dǎo)體制造技術(shù)中,高k介質(zhì)和低k介質(zhì)各自應(yīng)用在什么地方,為什么?
答案:
低k材料用于層間介質(zhì),因?yàn)榈蚹介質(zhì)減小電容,從而減小RC信號(hào)延遲,提高器件工作頻率。高k介質(zhì)用在替代柵氧化層,提高柵氧厚...
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【簡(jiǎn)答題】什么是離子注入時(shí)的溝道效應(yīng)?列舉出三種控制溝道效應(yīng)的方法?
答案:
溝道效應(yīng):?jiǎn)尉Ч柙訛殚L(zhǎng)程有序排列,當(dāng)注入離子未與硅原子碰撞減速,而是穿透了晶格間隙時(shí),就發(fā)生了溝道效應(yīng),使預(yù)期的設(shè)計(jì)范...
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