問答題

【簡答題】為什么柵介質(zhì)層的厚度減少有一個大致的極限?為什么現(xiàn)在需要高K值(介電常數(shù))的柵介質(zhì)?低K介質(zhì)用在什么地方?為什么?

答案: 隨著特征尺寸的縮小,柵氧化層越來越薄,柵極隧穿漏電流指數(shù)性增加,從而導(dǎo)致功耗增加。高k介質(zhì)用在替代柵氧化層,提高柵氧厚度...
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問答題

【簡答題】比較投影掩模版和光學(xué)掩模版有何異同?說明采用什么技術(shù)形成投影掩模版上的圖形?

答案: 投影掩膜版:圖形可能僅包含一個管芯,也可能是幾個。容易形成亞微米圖形;小曝光場,需要步進(jìn)重復(fù);光學(xué)縮小,允許較大的尺寸。...
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