A.0.5~1cm;平 B.1~1.5cm;平 C.0.5~1cm;斜
A.5℃ B.10℃ C.15℃ D.25℃
A.常用的有藥劑催根、電熱溫床、陽畦倒催根3種方法 B.藥劑催根常用的藥劑有NAA、IBA、ABT生根粉 C.藥劑催根處理方法有高濃度速蘸和低濃度浸泡 D.加熱催根時,要求生根部位保持25~28℃,發(fā)芽部位保持在12℃以上