問答題

【簡答題】常見的光刻對準曝光設(shè)備有？

答案：

接觸式光刻機；接近式光刻機；掃描投影光刻機；分步重復(fù)投影光刻機；步進掃描光刻機。
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問答題

【簡答題】常見的曝光光源？
答案：

紫外光源、深紫外光源。
問答題

【簡答題】什么是正光刻膠，負光刻膠？
答案： 正光刻膠：膠的曝光區(qū)在顯影中除去，當前常用正膠為DQN，組成為光敏劑重氮醌（DQ），堿溶性的酚醛樹脂（N），和溶劑二甲苯...
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