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【簡(jiǎn)答題】請(qǐng)畫(huà)出晶體管的I
D
—V
DS
特性曲線(xiàn),指出飽和區(qū)和非飽和區(qū)的工作條件及各自的電流方程(忽略溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng)和短溝道效應(yīng))。
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】為什么MOS晶體管會(huì)存在飽和區(qū)和非飽和區(qū)之分(不考慮溝道調(diào)制效應(yīng))?
答案:
晶體管開(kāi)通后,其漏源電流隨著漏源電壓而變化。當(dāng)漏源電壓很小時(shí),隨著漏源電壓的值的增大,溝道內(nèi)電場(chǎng)強(qiáng)度增加,電流隨之增大,...
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】什么是溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng),對(duì)器件有什么影響?
答案:
MOS晶體管存在速度飽和效應(yīng)。器件工作時(shí),當(dāng)漏源電壓增大時(shí),實(shí)際的反型層溝道長(zhǎng)度逐漸減小,即溝道長(zhǎng)度是漏源電壓的函數(shù),這...
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