由于顯影時(shí)的變形和膨脹,負(fù)性光刻膠通常只有2μm的分辨率。 正性光刻膠。
1.將掩膜版圖案轉(zhuǎn)移到硅片表面頂層的光刻膠中。 2.在后續(xù)工藝中保護(hù)下面的材料。