問答題

【簡答題】列舉用于硅片制造的5種常用摻雜。

答案： 離子注入，熱擴散，硅漿料，絲網(wǎng)印刷，激光
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問答題

【簡答題】列出并闡述刻蝕多晶硅的三個步驟。
答案：

1.對下層柵氧化層具有高的選擇比
2.非常好的均勻性和可重復性。
3.高度的各向異性
問答題

【簡答題】哪種化學氣體通常用來刻蝕多晶硅，為什么這種化學氣體替代了氟基化學氣體？
答案： 氯氣、溴氣、氯/溴氣
原因：因為氟基氣體的刻蝕是各向同性的并且對光刻膠的選擇比一般，為了避免擊掉下一層的氧化物...
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