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單項(xiàng)選擇題

化工化學(xué)水裝置低硅水來水壓力要求控制在（）MPa。

A.0.1～0.3
B.0.4～0.6
C.0.7～0.9
D.1.0～1.2

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單項(xiàng)選擇題

化工化學(xué)水裝置低硅水來水CODMn控制指標(biāo)≤（）mg/L。

A.1
B.2
C.3
D.4

單項(xiàng)選擇題

化工化學(xué)水裝置原水低硅水中含量較高的陰離子有四種，分別為（）。

A.HCO₃^-、CL^-、SO₄^2-、HSiO₃^-
B.HCO₃^-、CL^-、SO₄^2-、CO₃^2-
C.HCO₃^-、CO₃^2-、CL^-、NO₃^-
D.HCO₃^-、CO₃^2-、SO₄^2-、HSiO₃^-

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