A.截面必須封閉 B.草繪平面可為曲面 C.截面必須為開放 D.必須要局部坐標(biāo)系
A、多條軌跡線和一個(gè)截面 B、軌跡線為封閉時(shí)不會(huì)提示增加或無(wú)內(nèi)部因素 C、多條軌跡線和多個(gè)截面 D、一條軌跡線和多個(gè)截面(掃描混合)
A.偏移 B.抽殼 C.實(shí)體化