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摻雜后,退火的目的是()。
A.實現(xiàn)電激活
B.修復(fù)損傷
C.提高摻雜均勻性
D.加大損傷
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多項選擇題
常壓的硅外延方法有()。
A.四氯化硅氫還原法
B.三氯氫硅氫還原法
C.二氯氫硅烷法
D.硅烷熱分解法
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刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結(jié)合來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移?()
A.氧化
B.離子注入
C.光刻
D.拋光
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