問答題

【簡答題】光刻技術(shù)的圖形轉(zhuǎn)移分為哪兩個階段？

答案：

①圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠層
②圖形從光刻膠層轉(zhuǎn)移到晶圓層
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問答題

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目的：在介質(zhì)薄膜（二氧化硅...
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【簡答題】說明金屬CVD的優(yōu)勢和主要用途。
答案： LPCVD可以應用于制作金屬薄膜
優(yōu)勢：
①不需要昂貴的高真空泵；
②臺階覆蓋性好；
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