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Opc光學(xué)臨界校正
答案:
補(bǔ)償當(dāng)圖形尺寸和曝光光線尺寸臨近時(shí)所產(chǎn)生的衍射效應(yīng)。
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名詞解釋
PSM移相掩膜
答案:
相移掩膜上的電介質(zhì)層在光刻版上開(kāi)口部分以間隔的方式形成相移圖形,通過(guò)沒(méi)有相移涂敷開(kāi)口部分的光線,會(huì)與通過(guò)有相移涂敷開(kāi)口的...
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正光刻膠
答案:
曝光區(qū)域變軟并最后被溶解。負(fù)膠則相反。
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