問答題

【簡答題】對凈化間做一般性描述。

答案: 凈化間是硅片制造設(shè)備與外部環(huán)境隔離,免受諸如顆粒、金屬、有機分子和靜電釋放(ESD)的玷污。一般來講,那意味著這些玷污在...
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問答題

【簡答題】例舉出硅片廠中使用的五種通用氣體。

答案: 氧氣(O2)、氬氣(Ar)、氮氣(N2)、氫氣(H2)和氦氣(He)。
問答題

【簡答題】描述在硅片廠中使用的去離子水的概念。

答案: 去離子水:在半導(dǎo)體制造過程中廣泛使用的溶劑,在它里面沒有任何導(dǎo)電的離子。DI Water的PH值為7,既不是酸也不是堿,...
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