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在制作MOS管時,采用LOCOS工藝容易出現(xiàn)()。
A.溝道效應
B.鳥嘴效應
C.寄生效用
D.閂鎖效應
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單項選擇題
光刻時,將掩模版直接放在晶圓表面,與表面的光刻膠接觸,該種光刻方式稱為()。
A.接觸式
B.接近式
C.投影式
D.步進式
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單項選擇題
源漏注入之后,必須進行()工藝,修復晶格損傷,激活雜質(zhì)。
A.氧化
B.快速熱處理
C.退火
D.擴散
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