問答題

在淀積好金屬層之外，通常采用LPCVD法來淀積SiO2。

答案： LPCVD（低壓化學氣相沉積）是一種在半導體制造中廣泛使用的薄膜沉積技術，它可以在較低的壓力下進行，通常在100到100...
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