A、高速電鍍 B、光亮鍍鎳 C、化學(xué)鍍鎳
A、生成沉淀物的溶解度必須很小 B、沉淀反應(yīng)必須能迅速、定量的進(jìn)行 C、能夠用適當(dāng)?shù)闹甘緞┗蚱渌姆椒ù_定滴定的終點(diǎn),沉淀的吸附現(xiàn)象應(yīng)不防礙滴定終點(diǎn)的確定 D、沉淀的現(xiàn)象應(yīng)該不妨礙滴定結(jié)果
A、基體銅與金鍍層之間的阻擋層 B、印制板蝕刻的保護(hù)層 C、SMD元件安裝的可焊層
A、兩對(duì) B、一對(duì) C、多對(duì) D、四對(duì)
A、防止置換出被鍍金屬 B、增強(qiáng)結(jié)合力 C、防止表面生成氧化膜