填空題

SiO2-Si界面的雜質(zhì)分凝：（）過程中，（）在兩種材料中重新分布，（）吸引受主雜質(zhì)（B）、排斥施主雜質(zhì)（P、As）。

答案： 高溫；雜質(zhì)；氧化硅
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