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SiO
2
-Si界面的雜質(zhì)分凝:()過程中,()在兩種材料中重新分布,()吸引受主雜質(zhì)(B)、排斥施主雜質(zhì)(P、As)。
答案:
高溫;雜質(zhì);氧化硅
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2
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+
、K
+
離子,來源于工藝中的化學(xué)試劑、器皿和各...
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