填空題

Si襯底上熱氧化的機理由（）模型確定。氧化反應的快慢與三個因素有關，即：（）。氧化層厚度的理論計算公式為：式中A、B為與擴散率成正比的常數(shù)，τ為由（）決定的時間修正系數(shù)。

答案： 迪爾－格羅夫；溫度、氧化劑濃度和表面電勢；初始厚度
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