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制備半導(dǎo)體級硅的過程:1、();2、();3、()。
答案:
制備工業(yè)硅;生長硅單晶;提純
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晶圓制備中的整型處理包括()、()和()。
答案:
去掉兩端;徑向研磨;硅片定位邊和定位槽
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影響CZ直拉法的兩個(gè)主要參數(shù)是()和()。
答案:
拉伸速率;晶體旋轉(zhuǎn)速率
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