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問答題
【簡答題】與普通濺射法相比，磁控濺射的特點(diǎn)是什么？
答案：
普通濺射法有兩個(gè)缺點(diǎn)：一是濺射方法淀積薄膜的速率低；二是所需的工作氣壓較高，這兩者綜合效果是氣體分子對薄膜產(chǎn)生的污染的可...
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問答題
【簡答題】簡述干氧氧化與濕氧氧化各自的特點(diǎn)，通常用哪種工藝制備較厚的二氧化硅層？
答案：
干氧氧化：（優(yōu)）結(jié)構(gòu)致密，表面平整光亮；對雜質(zhì)掩蔽能力強(qiáng)；鈍化效果好；生長均勻性、重復(fù)性好；表面對光刻膠的粘附好，（缺）...
問答題
【簡答題】簡述溝道效應(yīng)的含義及其對離子注入可能造成的影響如何避免？
答案：
對晶體進(jìn)行離子注入時(shí)，當(dāng)離子注入的方向與與晶體的某個(gè)晶向平行時(shí)，一些離子將沿溝道運(yùn)動(dòng)，受到的核阻止作用很小，而且溝道中的...
