問答題

【簡答題】干法刻蝕有哪幾種?相應(yīng)的內(nèi)容是什么?

答案: 物理性刻蝕、化學(xué)性刻蝕和物理化學(xué)性刻蝕。
1)物理性刻蝕-濺射刻蝕:等離子體中的離子或高能原子對(duì)襯底進(jìn)行轟擊,...
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【簡答題】什么是干法刻蝕?什么是濕法刻蝕?比較二者的優(yōu)缺點(diǎn)。

答案: 1)干法腐蝕是應(yīng)用等離子技術(shù)的腐蝕方法,刻蝕氣體在反應(yīng)器中等離子化,與被刻蝕材料反應(yīng)(或?yàn)R射),生成物是氣態(tài)物質(zhì),從反應(yīng)...
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【簡答題】光刻的本質(zhì)是什么?

答案:

光刻就是將掩膜版(光刻版)上的幾何圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體襯底表面的對(duì)光輻照敏感的薄膜材料(光刻膠)上去的工藝過程。

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