問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】描述等離子體刻蝕和干法去膠的原理

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答案: ①把所需圖形在晶圓表面上定位或?qū)?zhǔn)
②通過(guò)曝光燈或其他輻射源將圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠涂層上
對(duì)準(zhǔn)原則:
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