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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】掩膜版的對(duì)準(zhǔn)法則，說(shuō)明對(duì)準(zhǔn)誤差有哪些？
答案：
①把所需圖形在晶圓表面上定位或?qū)?zhǔn)
②通過(guò)曝光燈或其他輻射源將圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠涂層上
對(duì)準(zhǔn)原則：
②通過(guò)曝光燈或其他輻射源將圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠涂層上
對(duì)準(zhǔn)原則：
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】列出光刻工藝的十個(gè)步驟，并簡(jiǎn)述每一步的目的。
答案：
①表面準(zhǔn)備：清潔和干燥晶圓表面
②涂光刻膠：在晶圓表面均勻涂抹一薄層光刻膠
③軟烘培：加熱，部分蒸發(fā)...
②涂光刻膠：在晶圓表面均勻涂抹一薄層光刻膠
③軟烘培：加熱，部分蒸發(fā)...
