填空題

光學光刻機的主要曝光光線的是波長為（）的g線和（）的i線，適合1微米以上特征尺寸的光刻。常用（）的KrF和（）的ArF準分子激光做1微米以下特征尺寸的光刻光源。

答案： 436nm；365nm；248nm；193nm
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填空題

光學光刻機主要有（）等幾種。非光學光刻機主要有（）。
答案： 接觸式、接近式、投影式和分步重復光刻機；電子束光刻機和X射線光刻機
填空題

光刻工藝的主要工序有：（）組成。
答案： 涂膠、前烘、對位、曝光、顯影、堅膜、介質(zhì)刻蝕、去膠
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