問答題

【簡答題】為什么說柵氧化層的生長是非常重要的一道工序？

答案：

氧化層的厚度決定了晶體管的電流驅動能力和可靠性，其精度必須控制在幾個百分點以內。
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【簡答題】氧化的目的是什么？
答案：

利用硅獨有的特性制造薄到幾十埃（只有幾個原子層）的柵氧化層
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【簡答題】什么是非接觸曝光方式？
答案：

掩膜與晶圓不接觸的光刻方式，分為接近式和投影式兩種
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