首頁(yè)
題庫(kù)
網(wǎng)課
在線???/a>
桌面端
登錄
搜標(biāo)題
搜題干
搜選項(xiàng)
0
/ 200字
搜索
問答題
【簡(jiǎn)答題】試畫出CMOS雙阱工藝中器件結(jié)構(gòu)的剖面圖并在其上標(biāo)注出主要材料層的名稱。
答案:
點(diǎn)擊查看答案
手機(jī)看題
你可能感興趣的試題
問答題
【簡(jiǎn)答題】工藝最后生長(zhǎng)在頂層的介質(zhì)層稱為什么?由什么材料構(gòu)成?其主要作用是什么?
答案:
在集成電路制作好以后,為了防制外部雜質(zhì)(如潮氣、腐蝕性氣體、灰塵等)侵入硅片,通常在硅片表面加上一層保護(hù)膜,稱為鈍化。<...
點(diǎn)擊查看答案
手機(jī)看題
問答題
【簡(jiǎn)答題】試給出CMOS工藝操作的三種基本類型,并說(shuō)明每種類型的主要作用及主要工藝。
答案:
薄膜制作(thin film/layer):形成不同材料構(gòu)成的工藝層;
摻雜(doping):根據(jù)設(shè)...
點(diǎn)擊查看答案
手機(jī)看題
微信掃碼免費(fèi)搜題