集成電路技術(shù)綜合練習(xí)問(wèn)答題每日一練(2019.01.19)
來(lái)源:考試資料網(wǎng)1.問(wèn)答題N阱CMOS主要工藝步驟是什么?
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3.問(wèn)答題異質(zhì)半導(dǎo)體材料的主要應(yīng)用有哪些?
4.問(wèn)答題化學(xué)氣相淀積薄膜的生長(zhǎng)過(guò)程是怎樣的?
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